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浙江大學(xué)Chao Gao等課題組--厚度為 50–600nm且具有高載流子遷移率的柔性大面積石墨烯納米膜
       塊狀石墨烯納米膜具有快速的電子和聲子傳輸以及強(qiáng)光-物質(zhì)相互作用的特點(diǎn),因此具有巨大的多功能應(yīng)用潛力,涵蓋光子、電子和光電器件到電荷剝離和電磁屏蔽等。然而,具有寬厚度范圍的大面積柔性密堆積石墨烯納米膜尚未見(jiàn)報(bào)道。在這里,作者報(bào)告了一種聚丙烯腈輔助的“基底替代”策略,用于制造大面積獨(dú)立式氧化石墨烯/聚丙烯腈納米薄膜(橫向尺寸約20厘米)。線性聚丙烯腈鏈衍生的納米通道可促進(jìn)氣體逸出,并在 3,000 °C 熱處理后實(shí)現(xiàn)厚度為 50-600 nm 的宏觀組裝石墨烯納米膜 (nMAG)。nMAG具有良好的電學(xué)性能:載流子遷移率,1540 cm²V?¹ s?¹;電導(dǎo)率,2.04 MS m?¹;載流子壽命4.7 ps。將其應(yīng)用于電磁屏蔽,nMAG的高電導(dǎo)率降低了其最低商用厚度(100 nm,20 dB);將其應(yīng)用于紅外探測(cè),nMAG的強(qiáng)光致熱發(fā)射效應(yīng)將石墨烯/硅二極管的響應(yīng)波長(zhǎng)從1.5 μm擴(kuò)展到了4 μm。這些結(jié)果預(yù)計(jì)將導(dǎo)致這種塊體納米薄膜的廣泛應(yīng)用,特別是作為微/納米電子和光電平臺(tái)。

 
Fig 1. 超薄獨(dú)立式 GO/PAN 薄膜的制備a 自立式 GO/PAN 薄膜的制備過(guò)程。 b 不同質(zhì)量比的GO/PAN薄膜在水中溶脹前后的XRD譜。 c 將 GO/PAN 薄膜從水面上的石英基材上分離(步驟 II)。 d 大面積且具有“求是鷹”形狀(角)的獨(dú)立式GO/PAN薄膜(190 nm厚)的圖像。 e 獨(dú)立式 nMAG(100 nm 厚)在氬氣氣氛下于 3,000 ℃ 處理 1 小時(shí)。

 
Fig 2. PAN 衍生的原子級(jí)氣體逃逸通道。 a GO/PAN中原子通道形成示意圖。 b GO/PAN (PAN, 70%) 在氮?dú)夂涂諝鈿夥罩械?TGA 圖;插圖顯示了在氮?dú)夂涂諝庵屑訜嶂?270 °C 的具有不同 PAN 含量的 nMAG 的殘余質(zhì)量。 c 600 nm 厚的預(yù)氧化 GO/PAN 薄膜(PAN,70%)和 PAN 薄膜中氧元素的 ToF-SIMS 元素深度剖面,及其相應(yīng)的氧 3D 映射圖像(插圖)。 d 不同PAN含量的GO/PAN薄膜在270℃預(yù)氧化前后的X射線衍射圖。 e 在不同溫度下熱處理的 nMAG (PAN, 50%) 和 rGO 的 ID/IG 值。插圖顯示了用不同含量的 PAN 組裝而成的經(jīng)過(guò) 1,600 ℃處理的 nMAG 的 ID/IG 值。

 
Fig 3. nMAG 的結(jié)構(gòu)和靈活性。 50 nm 厚 nMAG 的 HR-TEM(橫截面,向上)和 SEM(表面,向下)圖像。 b-d 不同厚度的 nMAG 的橫截面和表面 SEM圖像。 e 不同厚度 nMAG 的 AB 含量(上)和 50 nm 厚 nMAG 的拉曼光譜(下)。 f GO 的 HR-TEM 圖像(上)和 nMAG 的 STM 形貌圖像(下)。 g 用 600 nm 厚的 nMAG 折疊的紙飛機(jī)。 h 600 nm厚的nMAG反復(fù)折疊后的電阻變化。

 
Fig 4. nMAG 的電特性和應(yīng)用。 a nMAG 的載流子遷移率和電導(dǎo)率。 b 不同厚度nMAG的TCR。 c 不同厚度的nMAG的瞬態(tài)吸收動(dòng)力學(xué)(功率密度,1 mW mm−2;泵浦波長(zhǎng),532 nm;探針波長(zhǎng),1.4 μm)。 d nMAG電磁屏蔽機(jī)制示意圖。 e 50、100、240、400 和 600 nm 不同厚度的 nMAG 的 EMI SE。 f 不同 EMI 材料(詳見(jiàn)表 S4)在 X 波段與厚度的 SSE/t 比較。 g nMAG/Si 肖特基二極管原理圖。 h 不同波長(zhǎng)激光照射下nMAG/Si的I-V曲線(平均功率密度40 mW mm.−2)。 i 3 µm 波長(zhǎng)脈沖激光(200 fs 脈沖寬度)照射下 nMAG/Si 時(shí)域光電流(τr=20 ns 為上升時(shí)間,即信號(hào)從最低點(diǎn)上升到最高點(diǎn)的時(shí)間)。

 
Fig 5. 由 200 nm 厚的 nMAG 組裝而成的 10μm 厚的 mMAG 的熱特性。 a GO/PAN薄膜(每層400 nm)和PVA(每層5-20 nm)經(jīng)過(guò)3,000 ℃熱處理后逐層組裝形成10μm厚的mMAG的示意圖(上)以及預(yù)氧化過(guò)程中PVA分解示意圖(下);黃色和灰色薄膜是預(yù)氧化前后的PAN/GO薄膜,綠色薄膜是PVA。 b mMAG 的光學(xué)圖像。 c mMAG 表面和橫截面的 SEM 圖像,顯示出超低密度的微褶皺。 d SAXS 散射圖案的方位角 (φ) 圖以及 mMAG、GPI 和 GPF flms 的相應(yīng) 2D SAXS 圖案(插圖)。 e mMAG、GPI 和 GPF 薄膜的熱導(dǎo)率和電導(dǎo)率。 f 一側(cè)緊貼恒溫加熱器的 10μm 厚 GPI、Cu、GPF 和 mMAG 的紅外熱圖像和相應(yīng)的溫度曲線
 
      相關(guān)研究工作由浙江大學(xué)Chao Gao等課題組于2023年聯(lián)合在線發(fā)表在《Nano-Micro Letters》期刊上,F(xiàn)lexible Large-Area Graphene Films of 50–600 nm Thickness with High Carrier Mobility,原文鏈接:https://doi.org/10.1007/s40820-023-01032-6

轉(zhuǎn)自《石墨烯研究》公眾號(hào)


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